太阳城娱乐城 Semiconductor

iTops Series

PVD ITO 溅射系统

联系咨询
iTops Series PVD ITO 溅射系统
iTops Series PVD ITO Sputter System
iTops 溅射系统主要用于4、6、8英寸ITO沉积工艺。系统由1个传输模块、4个工艺模块、附属设备以及电源柜组成。该机台为多腔室设备，6K平台可配备不同的工艺腔室，并且可搭配loading机实现自动化生产。
设备特点
  • 采用托盘形式，可兼容2/4/6 英寸晶圆
  • 工艺温度在0~700℃之间
  • 结构简单，操作简便，维护方便
  • 设备稳定，运营成本低
产品应用
  • 晶圆尺寸
    2、4、6英寸
  • 适用材料
    铟锡氧化物
  • 适用工艺
    ITO电流扩展层
  • 适用领域
    半导体照明
分享我们：
微信扫一扫
太阳城娱乐
官方公众号